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半導體凈化車間潔凈度等級標準及要求？
半導體特性決定其制造過程必須有潔凈度要求，環境中雜質對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，所以在半導體器件生產過程中對什么都必須嚴格控制，雜質各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，灰塵粒子破壞半導體器件的表面結構等。
半導體器件生產環境要求很嚴，除了要求恒溫恒濕外，對生產環境潔凈度要求很嚴，按單位體積重規定的塵埃粒子數標準分成潔凈度的等級。一般分為：10級、100級、1000級、10000級、100000級，國際標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯邦標準中均有規定潔凈室和潔凈區內空氣以大于或等于被考慮粒徑的粒子最大濃度限值進行劃分的等級標準。
電子產品性能、質量的提高和生產過程的微細化，日益要求生產環境具有一定的空氣潔凈度等級和控制無塵車間內工藝生產所需的各類高純物質的供給質量，目前國內外還沒有統 電子產品的空氣潔凈度等級或生產環境控制要求的統一 規定，各種電子產品的生產廠家依據其生產的產品品種、所采用的生產工藝技術、生產工藝設備、生產用原輔料以及無塵車間運行的實踐經驗確定設計建造無塵車間的空氣潔凈度等級（如下表格）。
|
行業 分類 |
潔凈度要求 用途（工藝） |
級別 |
||||||||
|
0.1um |
1000 |
10000 |
100000 |
10000 |
||||||
|
0.5um |
10 |
100 |
1000 |
10000 |
100000 |
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半導體行業 |
拉單晶 |
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擴散 |
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腐蝕、光刻、表面處理、金屬蒸發 |
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組裝試驗 |
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原料 |
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研磨 |
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包裝 |
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半成品貯藏 |
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